第七百八十五章 光刻机的技术之墙得用水泡！

油，不也是液体的吗？”

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最开始的光刻机，还真是液压驱动，万一，万一中的万一，管道崩了，那液压油肯定会喷射的到处都是，正在生产中的所有芯片都会报废。所以后来，都改成了电机驱动。

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不过，当时高压的液压油都敢用，现在用一些水，有何不可？

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“既然秦总确定，那我们就用这种技术，不过……这也只能解决暂时的问题，继续提升工艺，还是会遇到拦路虎。”

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193纳米经过折射变成了133纳米，也就意味着，0.13微米的工艺能解决了，之后进入纳米时代呢？还是会遇到光刻机的光源问题的！

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“接下来，一步到位，开发euv光刻机，光源使用13.5纳米的极紫外波长。”

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徐教授一阵惊讶：“这也太快了吧？”

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“一步步来，还会不断地遇到技术难题，还不如加大攻关难度，将这个捣鼓出来，以后十年二十年，都不用担心光源问题了。”

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秦锋不懂具体的技术细节，但是他懂技术的发展路线，仅仅是这个，就会让己方的技术遥遥领先对手了。

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在光刻机的技术探索上，有很多失败的例子，尼康的157纳米是个坑，同时，还有光刻机生产厂研究过126纳米光源，但是，这个波长更奇葩，不仅仅是熔石英会吸收，任何材料的吸收都很厉害，透镜不能用，只能用全反射的方式，结构跨度太大，分辨率也没提升多少。

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所以，后世的光刻机厂商各种研究，最终认为，干脆一步到位，上13.5纳米的光源。

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这个光源的研究，也是经过了长时间的尝试的，甚至最初还是13.4纳米，各种研究之后，才锁定13.5纳米。

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“这个光源……”徐教授仔细地思考了一番：“得

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