第七百八十五章 光刻机的技术之墙得用水泡！

在真空中，还得是反射结构。”

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反正继续向下选，各种光源都是需要真空环境加反射镜的，和之前的结构完全不同，所以，一步到位！

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寻找反射的条件也不容易，最终工程师们找到了反射率最高的mo-si布拉格反射器，一层mo薄膜加上一层si薄膜，它的最高反射率在13.5纳米波长的位置，于是，这种光源就被确定了下来。

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其他的技术路线，x光之类的，都被超越了。

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不过，最初的时候，精度并不是特别高，只是比193浸润式光刻机提升了三倍而已，就算是这样，过渡到纳米时代也没问题了，之后不断研究，提升分辨率就可以了。

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“具体的结构你们来选择，具体的技术难关，你们来攻克，不过，这条技术路线绝对是没问题的，你们按照这条路线发展就可以！”

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秦总虽然是个外行，但是每次提出来的建议都是非常正确的，所以，徐教授没有继续犹豫，点头说道：“好，秦总，那我们就按照这个技术路线来！”

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其中有多少技术难题，秦锋也不知道，这是手下们要干的！

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现在，总算是没问题了吧？

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看到徐教授依旧皱着眉头的样子，秦锋继续问道：“徐教授，还有问题？”

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“目前，尼康正在研究193纳米光刻机，据说研究顺利，台积电已经下了几台订单，用不了多久，台积电也将会向0.18微米工艺发起冲击，而我们……”

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秦锋皱着眉头，他最近一直忙活着造车等业务，高科技这一块，从来没输过，所以就没太多关注。

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按说台积电应该走下坡路才对，没想到，居然又活过来了？

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“台积电后来又从

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