第510章 无法跳跃的光刻机迭代

这些工艺流程中需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光设备、清洗设备和检测设备等专业步骤，事实上就是最后的封装测试也不简单。

\n

这也就是任重为啥不能一步到位直接干duv的原因之一，因为在现阶段跨越太多了实在办不到！

\n

现在的这些设备哪怕原理方面的资料任重都可以拿到手，但是不能带着原型产品到亮剑世界的话，短时间内根本没法将那么复杂的东西研究出来，要知道一台duv包含了10多万个零部件！这比造原子弹来说实在是复杂太多了！

\n

这还是硬件方面的，还有软件系统方面的，也需要时间进行沉淀，培养真正的顶级计算机科学家！

\n

任重可以带着顶级的小型机电脑到亮剑世界创建东大的第五区和第九区这样特殊的研发特区，部署下一个真正在主世界都堪称现代化的开发环境，但是专家的培养可不是一朝一夕就能成功的。

\n

现在第五区和第九区之间，除了在研究验证新产品的正常研发之外。

\n

任重这边还招收了一大帮数学和物理方面的天才，这些人是按照计算机系统专家在进行深入培养，任重用了主世界的顶级计算机和工控教材，经过了重新编辑pdf文档后，消除掉了主世界尽可能多的痕迹，配合提供的诸如μclinux、μc/os-ii、ecos、freertos、mbed os、rtx、vxworks、qnx、nuttx这类型的实时操作系统，鸿蒙开源系统这样的大型分布式系统，以及dos、linux开源服务器和桌面系统等诸多系统源代码来供这些种子选手们进行学习和验证。

\n

这些计算机潜在的种子们，在这样的环境下，疯狂投入到了边看边学习边引进消化中的进程。

\n

这一支由顶尖科学家和工程师组成的研发团队，除了从学校遴选，还从各行各业挑选有悟性的天才出来，所以这个团队成员来自不同的领域，最

本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第5页 / 共7页