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“关键技术主要包括浸没液体供给与回收技术、浸没式液场维持技术、浸没式光刻污染与缺陷控制技术、超大数值孔径浸液式投影物镜开发与维护、浸液条件下成像质量检测技术等”
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王多鱼并没有全说那些关键技术。
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毕竟这些都是围绕着浸没相关的技术,说实话,对现在的李康民他们来说,研发难度还是非常大的。
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就这个改进,一旦完成的话,那么就可以超越西方国家,使得我们的光刻机能够生产出两位数的纳米芯片。
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目前市面上的芯片那都是三位数纳米芯片,比如现在的步进式扫描光刻机,现在还只是三百六十五纳米,都还没进入到一百九十纳米这个级别。
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所以李康民他们还有很大的技术优化空间。
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“听君一席话胜读十年书!”
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姚文荣惊叹不已:
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“王教授,您太厉害了,我都不敢想象,如果您能够全程参与光刻机的研发工作,恐怕我们早已经进入到两位数纳米芯片时代了.”
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李康民和薛宇恒两人连连点头附和,表示赞同。
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对于这样的彩虹屁,王多鱼早就听习惯了。
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“我就是技术指导,你要是让我真的参与研发的话,我恐怕会是两眼一抹黑”
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这不是谦虚,而是事实。
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毕竟王多鱼厉害的地方在于计算、创新设计等,但在实际的实验测试等,他就不那么精通了。
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比如光刻机的透镜,为了能够实现高分辨率,要求透镜必须具有高折射率,也就是要求透镜材料必须非常纯净和均匀,任何微小的不均匀性或缺陷都可能导致图像
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