第455章 EBL光刻机开始测试

张而激动，所有人都屏息凝视，目光紧盯着设备的反应。

随着启动按钮的按下，设备发出轻微的嗡鸣声，逐渐运转起来，显示屏上开始闪烁着数据。

“设备正常运转！”组长略有兴奋，说明路子是对的。

当然，要测试自然要拿实物硅片进行。

实验室里已经准备好了许多片涂上光刻胶的硅片，EBL光刻机与传统的光刻机不同，它无需掩膜版,直接写入。

小主，这个章节后面还有哦，请点击下一页继续阅读，后面更精彩！

光刻机的工作原理，简单来说，就是把硅片当成一块黑板，然后在黑板上画电路图。

而紫外线或电子束（EBL光刻机）就是粉笔，粉笔的粗细就是线条的粗细。

由于黑板大小固定，要想画更多的图，自然是粉笔越细越好，但相应地对技术要求更高，就越难画。

黑板上的一层膜，对应光刻胶。

画完图后，将硅片浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。

用专业的角度来说，

EBL光刻机与紫光光刻机有一些不同。

首先，在机器顶部的电子枪区域，场发射电子源开始工作。

在强大的电场作用下，尖锐的钨针尖端释放出高能电子束。

这些高速电子束就像一支训练有素的微观部队，整齐划一地向下加速。

随后，电子束进入复杂的电磁透镜系统。

多组精密的电磁线圈产生磁场，就像一个个无形的透镜，将电子束逐步聚焦成极细的光点。

这束光点的直径可以细到纳米级别，目前工艺制程是工艺制程14nm。

1毫米等于纳米（百万）。

而人类的一根头发丝的直径大约为0.04～0.05毫米，即4万到5万纳米。

在偏转系统中，精密的偏转线圈控制着电子束的运动轨迹。

通过计算机程序的精确控制，电子束能够在硅片表面进行精确定位和扫描，就像一支精确的纳米画笔。

在真空室底部，覆盖着光刻胶的硅片正静静等待着。

当高能电子束击中光刻胶表面时，发生剧烈的化学反应。

被电子束照射过的区域，光刻胶的分子结构发生改变，为后续的显影过程做好准备。

这就是EBL光刻机的曝光过程。

此时，

眼前这台造价

本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第5页 / 共6页