第七百八十五章 光刻机的技术之墙得用水泡！

定！

\n

“徐教授，你有事？”看着徐教授那欲言又止的样子，秦锋开口问道。

\n

“秦总，目前咱们的芯片加工水平已经发展到了0.18微米，我们继续向新一代的光刻机研发，在这个过程中，我们遇到了技术瓶颈。”此时的徐教授，脸上带着尴尬。

\n

当初，秦总慧眼识珠，投资徐教授的光刻机，之后，国产光刻机技术就开始爆发了，一直都领先整个世界。

\n

但是现在……己方在这里举步不前，那国产芯片技术，就要被国外逐渐追赶上来，甚至还有被反超的可能。

\n

这段时间，徐教授非常着急，头发都白了！

\n

今天，秦总既然过来了，那就给他汇报一下吧，万一秦总有什么好主意呢？

\n

“光源问题？”秦锋倒是想到了什么，开口问道。

\n

“没错，就是光源问题！”徐教授兴奋地说道：“随着光刻机技术的进步，我们需要的激光光源，波长也会越来越小，现在，新一代激光光源，遭遇了很大问题。”

\n

芯片制造中，最关键的就是光刻，这需要激光光源！

\n

这些年来，激光光源在不断进步，从436纳米的 g-line，到365纳米的 i-line，再到248纳米 krf，目前使用的是193纳米的 arf光源，这条路一直走得很通畅，但是，到了193纳米之后，就开始遇到问题了！

\n

“按照技术路线，接下来就轮到157纳米的f2光源了，但是这个光源的问题很大。”徐教授说道：“这种波长下，熔石英的吸收很大，没法用熔石英来做透射式系统，目前业界的期待是用caf2来做，但是，依旧会遇到双折射的问题……咱们卡在这里已经半年多了……”

\n

己方原地踏步，国外在追赶，用

本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第3页 / 共9页