道东大方面最先进的光刻机到底发展到了什么样的水平。
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只是知道肯定远远领先世界。
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在mbi和贝尔两大北美半导体龙头联合研制下,北美的光刻机才堪堪突破到了1微米的级别,到了这个光刻机加工水平上面后,贝尔和mbi的顶级芯片工艺研究专家都感觉前路要走尽了,现在需要换一条新的路走才行。
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按照理论研究的成果,到了1微米,接下来对于光刻的光源就需要更换了,否则新的光刻波长都不能支撑进一步的发展。
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但是新的光刻机究竟是怎么样,根本没有借鉴思路的mbi和贝尔这些专家不得不砸钱进行多种技术路径的摸索。
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对于光刻机严防死守,几乎没有透露半点技术思路出来的东大方面,根本没有想过用先进的光刻机销售来赚钱,他们只会考虑销售对手已经掌握的光刻机,用比对手低大概四分之一的价格来占领市场。
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这样一来,竞争对手除了从芯片生产过程中获得效益来支持下一代光刻机的发展,根本没有多少靠销售自己的光刻机赚钱的可能性。
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可以说在亮剑世界,流氓鹰方面吃足了东大的技术领先苦头。
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至于欧陆方面,他们早就在半导体方面躺平了。
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在机械、通讯、航空、铁路等方面倒是继续在跟随着东大进行追赶,有着一批潜龙计划的潜伏公司和几家龙头公司同东大联合开发的机会,欧陆的科技发展从表面上来说还是生机勃勃,并不比北美差。
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特别是航空发动机方面,经过同东大合作生产rb211三转子发动机后,一举进入了世界顶级的新型大涵道涡扇航空发动机行业,这不仅仅解决了新客机的动力需求。
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在约翰牛研究的新型狂风战斗机过程中,经过改进的新一代三转子发动机rb199,正是从rb211研究中获得的技
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