第1608章 两手准备

之前做实验过程中用过的。

这个问题一出口，会议室内包括周学、黄炜在内的所有人，几乎同时精神一振。

倒不是说问题本身有多精深。

而是足够具体。

这绝非一个外行能随口问出的问题。

无论答案是什么，都强烈地印证了一点：常院士此行，绝对带着明确的技术目的和解决方案而来！

吴明翰立刻回应道：“镥铝石榴石确实是目前已知的、在深紫外波段折射率最高的透明材料……理论上，如果能将它成功应用于物镜底镜，结合目前最高端的第三代浸没液，确实有可能将NA值提升到1.70……或者更高。”

他先是吹捧了一番，然后话锋一转：

“不过，高折射率带来的高NA值也有弊端。”他再次拿起激光笔，在刚才的示意图上着重描绘底镜的位置：“一个优秀的光刻物镜组，要求光线在系统内的走势尽可能平滑，而光线的大折射角传播则必定给系统带来较大的像差和色散差。”

“设计物镜组的过程中一方面要防止系统内多个反射镜之间遮拦成像光束，另一方面还要尽可能降低因为超高折射率而导致的像差和色散差，难度极高……就算设计能够实现，也需要引入更多的镜片元件、更复杂的曲面设计……”

“……”

吴明翰并非光学系统出身，但这部分知识对于半导体生产领域而言不算特别前沿，所以也能很快解释清楚：

“总之，目前还做不到。”

然而，这个结果却没有让常浩南感到气馁。

尤其是在他听对方说起像差和色差的时候——

无论“突破衍射极限”的猜想是否能够成行，负折射率材料天生的负色散特性总归是确定存在的。

单凭其在色差补偿方面的颠覆性能力，也足以成为解决超高NA物镜组设计痛点的关键。

他心中迅速盘算起来：

如果能把现有DUV光刻机的NA值从1.35大幅提升到1.70以上，相当于把等效分辨率波长从142.2nm压缩到112.9nm。

这将极大扩展现有DUV设备的实用能力边界，可能直接解决40nm乃至28nm的图形化问题，显着减轻对多重曝光技术的依赖，从而绕开良率和成本的泥潭！

片刻的思索后，常浩南心中已有了初步的盘算。

他依旧没有直接点破负折射率材料的存在，但决定再向前推进一步。

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