第1182章：一个新的时代,即将来临

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“陈总，这台就是我们研发出来的浸润式光刻机。这一台光刻机打破了传统的干式光刻理论，采用湿式以水为媒介，从而让制程大幅度的进行了提升。虽然我们目前的制程水平是在100纳米左右，但我们随时可以进入到65纳米行例。”

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“也就是说，一但我们的浸润式光刻机上马，我们的技术水平将可以和asml比肩。同时，我们也能生产出目前最为顶尖的芯片。”

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中心国际一处秘密研究基地，林本坚兴奋的向陈宇做着介绍。

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“好，很好。”

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看着眼前这一台光刻机，陈宇同样的有些激动。

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前世，国人不知道为这样的一台光刻机奋斗了多久。

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当然。

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这倒不是说前世国人做不出光刻机。

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其实光刻机技术国人是掌握的，但要做出达到全球顶尖制程的光刻机，那就不是那么容易的事了。

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截止到2021年，前世国内最为顶尖的光刻机制程仅仅只达到90纳米。

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但asml已经达到5纳米，3纳米，甚至往2纳米方向进军。

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这是几十倍的差距。

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同样也是几代水平的差距。

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真按这样的差距进行追赶，恐怕得100年。

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幸好。

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早在之前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。

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在他的湿式光刻理论的帮助之

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