第65章 极限烧脑

，但只要光子够多，最后肯定会形成干涉条纹。

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量越大，宏观分布越符合概率规律，这是众所周知的。而量变小了之后，偶然性误差就会凸显。

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所以一旦单层厚度降低到微米级，你随便乱喷就会出现有的地方厚。有的地方薄、有的地方甚至完全没有覆盖到的情况，质量控制也就无从谈起。

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而这个问题，眼下如果没有顾辙亲自插手，其他同行几乎也是不可能解决的。

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顾辙对此却是早有准备。他为此把手下搞化学沉积法的金灿也带来了，还有好几个研究生，在顾辙的方向指点下，开始搞专门用于分别收集plga或者pva轻薄喷层的掩膜材料。

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正常的熔喷环节，对于接收成品的滚筒、凝结网帘，要求是很低的，只要滚筒或网帘的材料不会粘住要生产的热熔布料，而且内部足够通入冷却水、让热熔材料一喷到冷却筒表面就瞬间冷凝，就行了。

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而顾辙对现在所要用到的收集掩膜的要求，却额外加了两道：

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他需要确保收集疏水的plga喷层的掩膜，本身足够亲油疏水，一旦热熔plga喷过来的时候，能够用油性吸附力把原本“堆叠不平”的plga尽量拉平、摊平。

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同理，收集亲水的pva喷层的掩膜，则要反其道而行之，足够亲水疏油，用水性表面特性把“堆叠不平”的pva尽量拉平。

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这样一来，靠着搜集膜的特定材质，可以进一步把微厚熔喷的厚度误差，额外再拉平一个数量级。

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而且，因为单一熔喷层太薄，材料结构强度太低，在堆叠起来之前，这些单层材料是没法直接滚筒搜集起来的，得跟着掩膜一起卷起来。

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所以顾辙最后还得考虑掩膜如何回收的问题，最好的办法思路当然是“掩膜本身的熔点，最好比plga和pva还低得多。

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