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不仅如此,华科也在这场金融风暴中抓住了机遇。
他们忙着招聘来自倭国、K国和俄罗斯等受金融危机影响的华人技术人才。这些人才涵盖了物理学、材料科学、化学及数学等多个领域,规模达到了惊人的1500多人。
为了安置这些人才,华科租用了科技园的一栋写字楼作为办公地点。而研发设备,就近在科技园租用厂房安置。
这里,汇聚了研发高性能芯片设计技术所需的所有顶尖设备。
光刻机,这个芯片制造中的核心设备,它通过光束透射过画有线路图的掩模,将线路图成比例缩小后精准地映射到硅片上。光刻机的精度和性能,直接影响着芯片的制造质量和效率。
等离子刻蚀机,用于干法刻蚀。它利用暴露在电子区域的气体形成等离子体,通过电场加速离子,精确地蚀刻表面材料。在芯片制造中,它扮演着去除不需要材料、保证芯片结构精确度的关键角色。
离子注入机,将离子注入半导体材料中,改变其电学性质。它常用于大规模集成电路和器件的制造,其精度和稳定性对芯片的性能有着至关重要的影响。
反应离子刻蚀机,则利用离子能量促进化学反应,实现各向异性刻蚀。它保证了芯片结构的精确度和均匀性,是芯片制造中不可或缺的一环。
单晶炉,用于生产高质量的单晶硅。它的性能和稳定性直接影响着晶圆的质量和纯度,进而影响着芯片的性能。
晶圆划片机,用于将生长好的晶圆切割成小片。设备的精度和稳定性对芯片的成品率和尺寸精度有着重要影响。
晶片减薄机,则用于去除晶片背面的多余材料。减薄工艺的精度和一致性对芯片的性能和可靠性有着显着影响。
气相外延炉,用于生产高质量的外延层。其性能和稳定性直接影响着芯片的电学性能和可靠性。
这些设备,在高性能芯片设计技术研发中起着关键作用。它们的精度、稳定性和可靠性,直接影响到芯片的质量、性能和生产成本。
在华科技术团队的不断突破下,他们终于开始生产手机样机。当第一台样机成功诞生的那一刻,整个团队都沸腾了。
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