第489章 顺利签约

密引进浸润式光刻机，推动自主芯片产业的发展。

……

将齐舟一行人送到预定好的酒店，埃里克便迫不及待地返回公司。

“埃里克，齐提供的资料，确实很有想法。”

研发部的负责人德莱斯拿着那份文件，兴奋的迎了上来。

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“哦，具体说说看。”

埃里克对此也很期待，但他不是技术人员，对文件的内容不是很理解。

“简单来说，研究EUV光刻机，首先遇到的难题是光源的功率和稳定性……”

德莱斯翻开文件，指着其中一项内容解释道。

顾名思义，EUV光刻机使用的是极紫外光，并且需要的是能产生波长13.5纳米的极紫外光。

目前可以采用激光轰击液态锡靶产生等离子体的方式生成EUV光。

但能量转化效率极低，仅有约0.02%的激光能量能转化为可用的EUV光。

想要实现量产，则要求光源功率达到250瓦以上，并且必须保持稳定，否则会导致曝光剂量不均，影响芯片良率。

齐舟提供的解决办法是，通过优化激光参数、锡滴相关参数以及反光镜周围的气体环境来提高光源功率。

这一点，以德莱斯为首的研发人员其实都知道。

但文件中所提到的，将锡滴体积减半，减少锡滴管消耗及椭球反光镜污染的办法，在他们看来却是极其大胆。

同时齐舟还提示，需要降低更换频率，同时保证每次激光轰击产生的EUV能量不降低。

再通过调整二氧化碳激光功率、氢气流量和压力等参数，找到最佳组合，防止反光镜雾化，提高光源稳定性。

这个办法，让德莱斯眼睛大亮，虽然还没开始验证，但心中已经有所预感。

按照这样的步骤实验下去，或许真的可以实现。

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