第450章 陪膏通公司演戏

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EBL光刻机的项目总进度，达到了95%。

虽然只剩下最后的5%，但郝强并不觉得很容易攻克。

到了这个时间节点，设备的型号和参数基本定下来了。

【第一台EBL光刻机型号：EBL001

工艺制程：14nm（未来科技集团第一代）

14nm的理论最大产能为：150WPH（Wafers Per Hour，即每小时可处理的晶圆数量。）】

对比之下，ASML EUV的NXE:3400B是最早量产出厂的型号，产能为135WPH，一直用到2020年左右，发展了第二款NXE:3600D，产能可以提升至160WPH。

工艺制程越小，相同产能情况下，效率更高。

别看EBL001的理论最大产能为150WPH，但工作效率要比NXE:3400B要快好几倍。

这种效率的提升不仅体现在生产速度上，更体现在芯片的性能和能耗比上。

EBL光刻机的魅力不仅在于当前的表现，更在于其潜力。

理论上，它甚至可以制造1nm以内工艺制程的芯片，这一数字令人震撼。

当然，要实现这一目标，某些关键零部件还需要进一步升级和优化。

目前，EBL光刻机的理论最小工艺制程已达到惊人的7nm，这在2011年还是难以想象的。

2012年，最先进的车载芯片主要采用28nm-40nm工艺。

而如今，14nm工艺的车载芯片仍未普及。

未来科技集团的青龙8124芯片采用14nm工艺，虽然在性能上还不及膏通公司2020年发布的8155（采用7nm工艺，应用于领克09等高端车型），但这已经是一个巨大的进步。

芯片行业的特点之一就是更新换代速度惊人。

预计青龙8124量产后仅一年时间，未来科技集团就有望推出新一代7nm工艺的芯片。

为了攻克EBL光刻机这一尖端技术，未来科技集团投入了巨大的人力和物力。

仅研发团队就高达300人，其中核心研发团队约100人，包括电子光学专家、精密机械工程师、真空系统专家、控制系统工程师和软件工程师等顶尖人才。

支持团队约150人，涵盖材料专家、半导体工艺专家、测试工程师、质量工程师和系统集成工程师等。

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