第462章 叶海亚考察

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叶海亚则对长春国科精密取得的各项令人侧目的成绩表示祝贺，他强调，光刻机曝光系统是光刻机的关键技术，希望长春国科精密公司在最求世界最顶尖的光学设备方向继续奋斗，为把我国国产高端光刻机早日面世而勤奋努力。

在技术指标方面，叶海亚向于在洪提出了“光刻联盟”的要求：长春国科精密新一代曝光系统出台时间不得晚于2023年年底，必须适配5纳米芯片制程。为此，“光刻联盟”将拨付10亿元作为增强研发一期经费。

随后，双方签署拨款协议，于在洪协议中郑重承诺：长春国科精密新一代曝光系统将按照协议约定，准时保质交货。

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