了不小的进步。”
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“引入交联结构和刚性分子结构这两步,也基本完成。”
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“不过想要建立符合的树脂体系,还需要不少的时间,在双组分树脂和梯度分布设计上,有待进一步提高……”
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他简单地说了说情况。
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当然,除了李暮提供的方法之外。
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他们也不是毫无突破。
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比如通过提高后烘温度,从而促进树脂的较量反应,增强机械强度。又比如控制显影条件,减少显影液对树脂的过渡侵蚀,保护结构的完整性等。
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通过调整光刻的工艺条件,也能够间接地改善机械强度和抗刻蚀性。
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甚至令李暮有些意外地提出了分层设计的想法。
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“采用多层光刻胶结构,低分子量树脂作为顶层,高分子量或抗刻蚀树脂作为底层。通过物理分层直接隔离性能需求,你觉得可不可行?”黄新华问道。
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李暮笑道:
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“当然可行,不过想要实现,需要克服多个难点。”
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“不同的光刻胶层之间需要具有良好的粘附性,避免层间混合或界面的缺陷的出现。”
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“还有就是工艺兼容性的问题,溶剂侵蚀、热膨胀系统不匹配,都有可能影响成品……”
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他说了一下自己的意见。
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分层设计,也叫多层光刻胶技术。
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不过这种技术,尽管在理论上具有显著优势。
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在实际应用中
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