第458章 盾构机

华和王绶觉两人，也迅速熟练地从口袋中掏出纸笔，开始记录。

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一旁的吴有望也没有闲着，不停地为他们泡茶倒茶。

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“光源上我们可以向准分子激光光源靠近，如krf248和arf193，甚至采用极紫外光源。”李暮做了个小小的总结。

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当然，最后的极紫外光源，就是提出来凑个数，让黄新华等人先有个概念而已。

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毕竟在未来，突破极紫外光刻技术，将是夏国势在必行的研究计划。

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……

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说完了光源。

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李暮接着又说起光学系统。

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现在他们的光学系统，还属于相对初级阶段。

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主要采用的是2:1投影光学系统。

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这种技术将掩模上的图案以2:1的比例投影到晶圆上，设计相对简单，分辨率也受到不小的限制。

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如果可以提升到4:1，甚至是5：1的话。

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解决100w集成度的标准，不会有任何问题。

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除此之外，还可以在高数值孔径透镜和浸没式光学系统方面下功夫。

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只不过以目前的技术来说，想要同时推进三者的研究，难度实在太大了。

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好在也没必要在光学系统上死磕。

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掩模技术上可以搞相移掩模、光学邻近矫正和多重图案技术。

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