第514章 准备起飞

nbsp;对于他们这些人来说，如果可以自由选择研究方向，他们当然更愿意选择光刻机的主机来进行研究。

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沿着当前这套设备研究演进到了65nm对于他们来说不是特别难的事情，现在国内的配套也能支撑下来了。

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重要的是在吃透这台光刻机主机后，后面更换成为浸润式技术路线，那么从45nm、35nm、28nm这些技术节点演化下去，毕竟光刻机技术发展到现在，相关浸润式原理和基本的技术工艺这些多多少少扩散出来了不少，如果陈教授和孙教授他们在有充分投入的情况下，研究实现用水来替代空气这个关键技术后，就能实现14nm/10nm这两个关键性的技术节点，站在国内制程研究的前沿。

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想想这些都他们都很兴奋。

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(本章完)\n

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