穿越亮剑搞军工
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第512章 捡破烂也能办大事

于学校来说很贵,但是对于任重这样的富豪来说就不算什么了,少买几台豪车不就出来了。

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所以刘学仁教授对于任重的要求完全没有反对的必要,巴不得任重在这方面兴趣更加浓厚。

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“刘院长,如果是这样的话,那么我们原则上就没有什么分歧了,接下来我们先讨论确定这个实验室的具体建设计划,我看到这批设备的拍卖时间基本确定了,就在11月份,我希望设备买下来后,运回咱们电子学院这边就有足够的人力来进行翻新维修、整理相关手册资料,尽快把这个设备能运转起来,回头我这边有些芯片也希望可以帮我制作出来,当然在耗材方面的成本我这边全额报销。”任重对刘学仁教授的态度还是很满意。

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他希望双方合作更加愉快一些,毕竟未来还得靠这批老教授们把这套生产线所有的东西资料尽可能详尽的搞出来。

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到时候任重可以因势利导让这些老教授们产生自主研发替代的心思,不能老是买买买。

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0.13微米在光刻机的历史上是一个微妙的技术关口。是依托248nm波长的krf光源开发的第一代干式duv,从原理上来说,最大可以升级到65nm制程,从0.13微米演化到0.1微米,然后进一步到90nm、80nm和65nm这是一个技术路线的。

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在这之后,就需要更换光源,采用波长更短的193nm的arf光源才行了,arf光源的光刻机从光线波长来说,可以开发出来90nm到45nm的光刻机,这已经是东大当前最高水平了。

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毕竟下一步的技术路线就更换成浸润式光刻机,折射介质换成水来把波长更改为134nm,只有这样才能突破45nm以下的制程,最高到7nm。

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从任重了解的情报来说,如果电子学院能把这台0.13微米的光刻机想办法升级到90nm,那已经是一个了不起的成就了,但是这个技术关口也不是完全不可能,毕竟电子学院是东大这个学科领域的龙头,调集国内资源集中办事后,在光源、双工件台系

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