第483章 八月新机,横扫全场

技术难度吹高一些，怎么体现技术先进性？

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说完了，智云微电子的等效七纳米工艺之后，徐申学才话锋一转：“我们耗费了无数的资金，无数工程师的努力最终才完善了七纳米工艺！”

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“那么用这种工艺做出来的芯片是什么样的？”

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徐申学这个时候，从口袋里掏出来了一枚小芯片：“这就是我们用最新的七纳米工艺制造的s903芯片，也是我们新一代s18系列手机上搭载的soc芯片！”

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“它拥有惊人的八十三亿个晶体管，但是体积却是只有上一代的s803芯片的百分之八十！”

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“这是因为我们采用的七纳米工艺，其晶体管密度达到了每平方毫米一亿个，比上一代的十纳米工艺的每平方毫米五千五百万个，晶体管密度提升了一点八倍！”

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“比十二纳米工艺提升了二点三倍！”

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智云微电子里的十四纳米、十二纳米、十纳米，这三种工艺都是建立在双重曝光的技术基础上，严格来说，这其实是一种技术路线，但是在晶体管形状以及其他技术细节上进行了改进。

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其中的14/12纳米工艺高度类似，连晶体管密度都差不多，只是十二纳米工艺的功耗更低，严格来说智云的12纳米工艺只是14纳米工艺的低功耗版本……低功耗可以把面积做的更大一些，芯片的晶体管总数更多一些。

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因此采用十二纳米工艺的s703芯片，其体积是要比采用十四纳米工艺的s603更大的，带来的性能也更强。

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而等效十纳米工艺，则是在十二纳米工艺的基础上进一步提升，把晶体管密度做到了每平方毫米五千五百万个，几乎是把双重曝光技术压榨到了极限。

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而到了现在的等效七纳米工艺，则是采用了全新工艺的四重曝光技术，晶体管密度直接飙升到了每平方毫米一

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