ne光刻机已经推进到第二代,相对比第一代大幅度提升了产能,提升了效率,降低了芯片的制造成本,该光刻机用于成熟的350-500纳米的芯片生产,具有成本低,效率高的特性\x1b,目前广泛供应国内各厂商以及部分海外厂商,这款光刻机和我们的krf光刻机,目前是没有专利障碍的,所以也面向国外客户供应,利用我们的低成本优势也获得了一定的海外市场,不过整体技术上还是对比国外的产品有差距,因此销量一般。”
\n
“krf光刻机,同样也进行了改进,推出了升级型号,提升了效率,这款光刻机用于成熟的130-250纳米工艺,该款光刻机我们的智云微电子里以及其他国内厂商大量采用,使用反馈很不错,乃是我们的诸多光刻机产品里,客户反馈最好的一款,成本低,容易维护,生产效率好,所以这一款光刻机我们的出货量还是比较大的,每年出货超过四十台!”
\n
“duv干式光刻机,我们的初代型号是hduv-100,后续我们又推出了改进型号hduv-200以及300,最新的hduv-300型号,今年刚实现量产并供货,进一步提升了套刻精度,为客户提供更加良好的65工艺节点的生产,整体效率也进一步提升,降低芯片生产成本。”
\n
“这系列光刻机,出货量也比较大,预计今年我们能够出货大概五十台以上,主要供给智云微电子,中芯等厂商以及其他几家国内厂商,主要用于55-90纳米工艺节点。”
\n
“duv浸润式光刻机,是目前我们的核心产品,技术先进,售价也相对高昂,该系列光刻机也是目前我们公司的主要营收来源!”
\n
前面几代的光刻机虽然也还有市场,不过这些老旧光刻机已经卖不出什么价了……毕竟落后芯片都卖不什么价格了,制造出这些落后芯片的落后光刻机,同样也卖不出什么价来。
\n
当然,虽然价格低一些,但是依旧还有市场,并且市场还不小。
\n
因为成熟光刻机,它除了可以直接生产成熟工艺的芯片外,也可以作为先进工艺芯片的辅助设备使用。
本章未完,请点击下一页继续阅读! 第4页 / 共15页