第243章 全场惊呼,强大的星途S80显卡！

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传统的dvu光刻机因为光源分辨率限制，达到28纳米的时候，继续往下费的制造成本、时间成本、精力成本都很大。

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就比如当前全球想要使用duv光刻机去生产14纳米的芯片，那就只能采用重复暴光技术。

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从而拥有了综合制造成本、时间成本、精力成本过高的问题。

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反之euv光刻机则不同，因为它只需要曝光一次，生产效率自然是提升上去了，需要浪费的精力也是减少了。

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其中更妙的是euv光刻机因为分辨率优势，天生擅长7纳米制程工艺以下的芯片生产。

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也因此，我们研发出来的国产euv光刻机是一个相当优秀的光刻机，它的上限其实并不止于10纳米。

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当然想要攻克未来的7纳米、5纳米、3纳米，这终究需要脚踏实地地去研发去努力！”

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听到林峰的话语，现场的人们再次激动地鼓起了掌，为林峰的激昂讲话而喝彩。

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不得不说，通过林峰这一番话语后，他们对于大夏芯片的未来，真是无限期待了起来。

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星途科技用了5万人加上大半年，最终成功攻克了10纳米制程工艺的国产化。

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此时对于林峰号称要拿下更强的7纳米、5纳米乃至3纳米，现场的人们包括互联网的人们全都认为有很大成功概率。

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在这样的情况下，他们又如何能不心生期待呢？

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对此，林峰在人们的掌声稍微停息后又配合视频继续介绍起了10纳米制程工艺的事情。

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整个10纳米制程工艺研发过程中谁付出了巨大的

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