第157章 必须形成一定的威慑力！否则可能会出大乱子！

是激发了别样的热潮。

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不说业内人士和爱好者，就算什么都不懂的普通人，也都知道制造芯片的关键是光刻机了，甚至能头头是道的说一堆诸如duv、euv双重曝光四曝光等一批专业名词了。

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而今天，赵军的一番话，#十倍分辨率光刻#一出来，恰逢其会，瞬间引起了轰动与聚变——了解了芯片制造是什么之后的人们更加能够体会其中的强大。

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有人瞬间就意识到，这不一下子就赶上世界最顶尖的工艺了吗？2~3nm！

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“当然没有这么简单，宏图微电子的产线，实现极限十倍光刻是没错，但极限并不容易达到的。

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“出于良率和效率的考量，那边的产线更多的还是在生产40nm的芯片，少部分量产28nm。至于极限22nm，只是理论数据能达到。

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“还有就是，工艺越先进，提升越困难，指望28nm级别的光刻机实现2.8nm的工艺是不可能的。顶多，能够达到euv5nm的水准。”

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此刻，有关产线的相关消息已经放在了明面上，过了保密期限，只要不涉及技术泄密，可以畅所欲言了。

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憋了那么久的知情人士也一下子纷纷冒了出来：

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“那也已经不得了啊！台积电所谓的5nm4nm3nm的，实际也达不到，只是一个名字而已。

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“更何况，经过卷耳智能科技改造过的产线，那是具有成长性的。现在的工艺，虽然已经基本定型，但是，随着时间的推移，随着生产经验和生产数据的不断增加，仍然是具备更上一层楼的可能性的。

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“然后，你们再想想海思的设计能力，在工艺严重落后的情况下，9100的性能已经追的只差1~2代了，这要工艺提上来了，什么效果你敢想？”

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