第967章 最长两三年的时间！

，虽然说是28纳米的工艺，但实际上中芯国际那边使用的是65纳米的氟化氩光刻机光刻机雕刻技术，叠加了多重曝光技术才做到28纳米的。”

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“也就是说，目前咱们碳基芯片的纳米进程上限，依旧在一定程度上受到了光刻机的制约和影响。”

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听到这话，徐川有些好奇的问道：“但是我记得碳基芯片好像可以绕过光刻机？使用其他的雕刻手段来着？之前我有看过类似的论文来着。”

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微微顿了顿，他接着道：“而且如果我没记错的话，之前你们通过实验室制备‘mosfet金属-氧化物半导体场效应晶体管’和‘jfet结型场效应管’好像也没用光刻机吧？”

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对于芯片制备相关的技术，他的确不是很了解，毕竟他并不是这一领域的研究人员。

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不过星海研究院这边在研究碳基芯片，他还是看过一些芯片领域的论文的。

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比如碳基芯片的雕刻技术，电路图的设计等等。

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芯片芯片被誉为现代工业的掌上明珠，其制造过程涉及多个工艺步骤。

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包括氧化光刻、离子注入、化学机械研磨、刻蚀、淀积、金属化、清洗等。

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而在这些工艺步骤中，光刻技术尤为重要，是芯片制备的核心工艺之一，占芯片制造成本的35%以上

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通常来说，芯片只能通过光刻机生产的主要原因是光刻技术具有高分辨率、高效率和多层次制造的能力。

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越是高端的芯片，对光刻机的要求也就越高。

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目前全世界能够生产低纳米级别光刻机的厂商，只有风车国的阿斯麦asml公司。

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这是光刻机领域的霸主，拥有极紫外（euv）光刻机技术，能够

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